CVD化學氣相沉積系統｜高端薄膜制備核心裝備-天津中環電爐股份有限公司

應用案例

Cases

首頁

CVD化學氣相沉積系統｜高端薄膜制備核心裝備

CVD系統是新材料、精密制造領域的關鍵工藝設備，利用化學氣相反應技術，在各類基材表面生成均勻、致密、高強度的功能性薄膜，覆蓋絕緣、鈍化、耐磨、耐高溫、導熱、生物兼容六大核心性能。

2026-08-05

管式 CVD 集成系統｜新材料薄膜制備科研設備

CVD集成系統配置
1.PLC集成控制系統
2.1200°C開啟式管式爐
3.多路質量流量控制系統5.電動滑軌系統
4.真空控制系統(可選配中真空/高真空)

CVD（化學氣相沉積）系統，通過氣態前驅體在基體表面發生化學反應，生成固態薄膜涂層，可制備金屬、陶瓷、半導體、金剛石、各類功能薄膜，薄膜均勻性好、附著力強，廣泛用于半導體、新能源、新材料、航空航天、科研高校等領域。
1. 半導體與微電子行業
? 芯片制造核心工藝：沉積多晶硅、氧化硅、氮化硅、鎢、鈦等介質層與金屬薄膜，用于邏輯芯片、存儲芯片的絕緣層、鈍化層、柵極、金屬互連線路。
? MEMS 微機電器件：微傳感器、微執行器，制備絕緣與結構薄膜，保障微型器件絕緣、抗腐蝕。
? 功率半導體 IGBT、MOSFET：沉積鈍化保護層，提升器件耐壓、可靠性。
2. 光伏與新能源
? 晶硅光伏電池：制備氮化硅減反鈍化膜，降低光反射，提升電池轉換效率；TOPCon、HJT 電池中沉積多晶硅、鈍化層薄膜。
? 鈣鈦礦電池：部分 CVD 工藝用于傳輸層薄膜制備。
? 固態電池：電解質薄膜沉積，開發薄膜型固態儲能器件。
3. 硬質涂層與刀具模具（硬質 CVD）
? 切削刀具：沉積 TiN、TiCN、Al?O?硬質涂層，提高刀具硬度、耐磨、耐高溫，用于鋼鐵、合金切削加工。
? 模具、耐磨零部件：提升模具抗磨損、抗咬合，延長沖壓、壓鑄模具使用壽命。
4. 金剛石薄膜制備
? CVD 金剛石：制備多晶金剛石薄膜，用于刀具、散熱片、光學窗口、傳感器。
? 熱管理：金剛石超高導熱，用于高功率芯片、激光器散熱基板。
? 光學：紅外、紫外光學窗口，抗腐蝕光學鏡片。
5. 航空航天與高端裝備
? 高溫防護涂層：在高溫合金構件表面沉積抗高溫氧化、抗熱腐蝕涂層，用于航空發動機熱端部件，抵御高溫燃氣侵蝕。
? 零部件耐磨防腐：航空精密零部件耐磨涂層，提升復雜工況使用壽命。
6. 顯示與光電子
? OLED、Micro?LED：部分 CVD 設備用于絕緣層、鈍化層薄膜沉積。
? 光學器件：制備各類光學介質膜，濾光片、增透膜，激光器諧振腔薄膜。
7. 科研高校與新材料研發
? 二維材料制備：石墨烯、MoS?等二維材料薄膜生長，材料科學實驗室主流設備。
? 新材料開發：新型陶瓷、納米薄膜、功能涂層小批量實驗，新材料機理研究。
8. 醫療器械
? 生物兼容涂層：沉積類金剛石 DLC 涂層，用于骨科植入件、手術器械，提升耐磨、耐腐蝕、生物相容性。
9. 其它工業領域
? 防腐涂層：閥門、管件抗腐蝕薄膜，應對強腐蝕工況。
? 傳感器：氣體傳感器、壓力傳感器功能薄膜。